施勒内马赫在信中说：“荷兰认为，基于国家和国际安全，有必要尽早控制这项技术”。

该公司称，尚未就“最先进的”确切定义获得指导意见。

声明说，“重要的是要考虑到额外的出口管制并不适用于所有浸没式光刻工具，而是只针对‘最先进的’工具”。

据报道，如果ASML所言属实，荷兰的新规定可能达不到美国对自身芯片设备行业施加的限制标准。 ASML的美国竞争对手目前的经营受到多项制约，包括机器可以生产什么产品，以及是否可以派人到中国工作。

ASML同日在一份声明中说，这些措施将“不会对2023年或更长时期的财务展望产生重大影响”。但该公司称，先进的DUV系统需要申请出口许可。

受限于美国去年8月通过的晶片法案，ASML被禁止向中国企业出售极紫外光刻（EUV），也是它最先进的技术。最新的提案将进一步禁止ASML出售比极紫外光刻更低一档的产品。

按市值计算，来自荷兰的光刻机巨头阿斯麦（ASML）是欧洲最大科技公司，也是全球某些光刻系统的唯一制造商。

据路透社此前报道，美国商务部一名官员今年1月31日透露，美国与日本和荷兰达成协议，限制对中国出口先进的晶片制造设备。美国去年10月公布了向中国出口晶片的管制措施，包括严格限制美国制造商向中国客户供应最先进的晶片制造设备，或从国外购买有助其军事和人工智能能力的尖端晶片。

据报道，这意味着对最尖端光刻机出口管制将进一步收紧，而这类产品是生产全球最先进芯片的关键。

据彭博社报道，荷兰外贸部长施勒内马赫（Liesje Schreinemacher）星期三（3月8日）发给议员的信函称，荷兰政府拟提议限制浸没式DUV光刻机的出口，该规定预计将在夏季前公布。

面对美国的施压，荷兰准备限制部分芯片制造设备对华出口，以阻止中国获得关键的半导体技术。